光學平臺產品及廠家
psylab心理測試云平臺一、系統(tǒng)簡介psylab心理測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及行為實驗范式
更新時間:2025-12-18
1. 系統(tǒng)方案ansys高精度自動駕駛仿真驗證平臺提供了基于物理的三維場景建模、基于語義的道路事件建模、基于物理光學屬性的攝像頭和激光雷達的仿真、基于物理電磁學屬性的毫米波雷達的仿真，從而實現(xiàn)多傳感器
更新時間:2025-12-18
ergolab虛擬仿真教學實驗平臺一、平臺簡介ergolab虛擬仿真教學實驗平臺由ergolab人因測試子平臺、ergolab人因數(shù)據(jù)分析子平臺、ergolab人因心理試驗臺等部分組成。平臺融合了認知與心理測試、生理測量等人因研究技術，能夠
更新時間:2025-12-18
psylab人因測試云平臺一、系統(tǒng)簡介人因測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進行主觀施測，包括問卷、量表以及行為實驗范式的施測。系統(tǒng)
更新時間:2025-12-18
ergolab interaction交互行為分析平臺一、產品簡介ergolab interaction交互行為分析平臺，是津發(fā)科技依據(jù)“人因工程與工效學”和“人-信息-物理系統(tǒng)”理論自主研發(fā)的、面向產品及原型的多模態(tài)主客觀交互行為測評與分
更新時間:2025-12-18
ergolab虛擬仿真教學實訓平臺一、平臺簡介ergolab虛擬仿真教學實訓平臺由ergolab人因測試子平臺、ergolab人因數(shù)據(jù)分析子平臺、ergolab人因心理試驗臺等部分組成。平臺融合了認知與心理測試、生理測量等人因研究技術，能夠
更新時間:2025-12-18
ergolab組合式智能可穿戴生理測量平臺一、平臺概述ergolab組合式智能可穿戴生理測量平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司自主研發(fā)的可穿戴便攜式生理信號記錄工具，適用于多種實驗環(huán)境。平臺采用多傳感器融合技術及算法，單個傳感器能夠采集多通道生
更新時間:2025-12-18
北京聯(lián)英精機精密隔振光學平臺gz01光學平板面包板自水平大理石氣墊精密隔震光學平臺光學測量實驗測試工作平臺
更新時間:2025-12-17
北京聯(lián)英精機光學平板pb01光學平臺面包板自水平大理石氣墊精密隔振光學平臺光學測量實驗測試工作平臺北京聯(lián)英精機光學平板pb01光學平臺面包板自水平大理石氣墊精密隔振光學平臺光學測量實驗測試工作平臺
更新時間:2025-12-17
北京聯(lián)英精機氣墊精密隔振光學平臺qd01光學平板面包板自水平大理石隔震光學平臺光學測量實驗測試工作平臺
更新時間:2025-12-17
去年下半年以來煤炭需求回升、價格上漲，是正常的短期波動；我國能源結構調整速度進一步加快，可再生能源已進入規(guī)?；l(fā)展新階段。目前，我國水電、風電、光伏發(fā)電裝機容量已穩(wěn)居*7月21日，能源局召開新聞發(fā)布會，介紹上半年能源形勢和可再生能源及風電、
更新時間:2025-12-17
rkin elmer thga石墨管,屬于橫向加熱石墨管，適用于 aanalyst 600/800、4100zl、4110zl、5100zl 和 simaa 6000 型號，塞曼石墨爐隨附一個集成的 l'vov 平臺。這一設計可
更新時間:2025-12-17
ds-2000/14k 無掩膜單面光刻機，采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素數(shù) 1024×768，采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
更新時間:2025-12-17
ds-2000/14g 型無掩模單面光刻機,采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素數(shù) 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像，分辨力 1um。
更新時間:2025-12-17
oai的面板掩模光刻機 model 6020s, 用于foplp型號6020s -半自動化或自動化,實現(xiàn)500mm x 500mm 晶圓尺寸的fo-plp加工.
更新時間:2025-12-17
nie-4000 離子束刻蝕系統(tǒng)，nir-4000 ibe/rie 雙刻蝕系統(tǒng)，通過加速的 ar 離子進行物理刻蝕或銑削。對于硅的化合物也可以通過反應離子束刻蝕的方式提高刻蝕速率和深寬比。
更新時間:2025-12-17
hysitron ti 980 納米壓痕儀bruker hysitron ti 980 triboindenter 加速納米力學研究進入更高階段,同時具有高的性能、靈活性、可信度、實用性和速度。基于海思創(chuàng)幾十年的技術創(chuàng)新，它為納米力學表征帶來了高水平的性能、功能和易用性。ti 980達到了臺優(yōu)異納米力學測試儀
更新時間:2025-12-17
echo pro 全自動超聲波掃描顯微鏡美 sonix 全自動超聲波掃描顯微鏡echo pro , 批量 tray盤和框架直接掃瞄, 編程自動判別缺陷, 高產量,無需人員重復設置, 自動烘干.
更新時間:2025-12-17
日本elionix 微細加式電子束曝光電子束直寫機els-f125，是elionix推出的上臺加速電壓達125kv的電子束曝光系統(tǒng)，其可加工線寬下限為5nm的精細圖形。
更新時間:2025-12-17
日本elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng) els-f150, 是上第 個150千伏電子束光刻系統(tǒng)。支持單位納米用于高研究的設備制造。
更新時間:2025-12-17
octoplus 500 mbe系統(tǒng)是為了在6英寸襯底上生長高質量的iii/v族或者ii-vi族異質結構材料而研發(fā)業(yè)分子束外延系統(tǒng)。樣品臺選用熱解石墨加熱或者鎢、鉭加熱絲。標準的octoplus 500有11個呈放射狀分布的源孔，可以根據(jù)需要增選3個源孔。
更新時間:2025-12-17
德國leica em txp全新精研一體機，是一款獨特的可對目標區(qū)域進行精確定位的表面處理工具，特別適合于sem，tem及l(fā)m觀察之對樣品進行切割、拋光等系列處理。它尤其適合于制備高難度樣品，如需要對目標精細定位或需對肉眼難以觀察的微小目標進行定點處理。
更新時間:2025-12-17
keyence 基恩士 形狀測量激光顯微系統(tǒng)全新 vk-x3000，納米 / 微米 / 毫米，一臺即可完成測量。292 種分析工具，一臺即可了解希望獲取的信息。一臺即包含了光學顯微鏡，臺階儀，光學輪廓儀，及電鏡功能。
更新時間:2025-12-17
日本電子 jsm-7610fplus，用于納米科學的肖特基場發(fā)射掃描電子顯微鏡， 是款采用半浸沒式物鏡、擁有超高分辨率的場發(fā)射掃描電子顯heidelberg 海德堡 μmla桌面無掩模光刻機
更新時間:2025-12-17
dwl 66+激光光刻系統(tǒng)是具經濟效益的高分辨率圖像產生器, 具有多種直寫模塊，實現(xiàn)不同精度直寫需求, 能于結構上進行灰度曝光
更新時間:2025-12-17
德國海德堡 heidelberg 激光直寫光刻機 mla150,德國高精密激光直寫繪圖機,非接觸式曝光,可支持高效數(shù)位光刻與灰度光刻.
更新時間:2025-12-17
英國nanobean nb5 電子束光刻機,具有良好的穩(wěn)定性，平均正常運行時間超過93%.
更新時間:2025-12-17
瑞典 mycronic 掩膜版光刻機 fps6100，用于制作高精度掩膜版，廣泛用于半導體，tft-lcd，微電子等行業(yè)。
更新時間:2025-12-17
系統(tǒng)中集成了高精度的激光干涉工作臺，運動行程為50 x 50 x 25mm，xy方向定位精度為2nm，可以實現(xiàn)精確的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。
更新時間:2025-12-17
ebpg5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟ebpg5200一樣的通用光刻平臺設計，對電子束直寫應用進行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。
更新時間:2025-12-17
德國raith voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機,系統(tǒng)可實現(xiàn)8英寸樣品的高速曝光。系統(tǒng)的穩(wěn)定性是非常關鍵的指標，可保證大面積均勻曝光。該系統(tǒng)外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實驗室環(huán)境下，仍然能確保系統(tǒng)具有非常好的熱穩(wěn)定性，提高系統(tǒng)對外界環(huán)境的容忍度。
更新時間:2025-12-17
raith 150 two可實現(xiàn)亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設備對實驗室環(huán)境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運行。
更新時間:2025-12-17
raith 150 two可實現(xiàn)亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設備對實驗室環(huán)境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運行。
更新時間:2025-12-17
phabler 100 紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統(tǒng)的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司擁有突破性的phable 曝光技術，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結果非常均勻，質量很好。
更新時間:2025-12-17
英國hhv auto 306 科研工作者和電子顯微學家的多功能鍍膜設備，是一種多功能的緊湊型鍍膜設備，設計用于滿足科研工作者和電子顯微學家的需求。auto306可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標準化工藝附件，提供一系列實驗技術以滿足現(xiàn)代化實驗室的需要。
更新時間:2025-12-17
tf500/tf600 適合先進研發(fā)和試生產的全功能系統(tǒng)，系統(tǒng)配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件，以精確的符合用戶需求。這兩個型號的系統(tǒng)都可以安裝多個鍍膜源，也都支持離子束處理選項。有一系列預進樣室（load lock）和樣品操縱裝置可供選擇，以提高真空鍍膜效率。
更新時間:2025-12-17
ion 100wb-40q 德國 pva tepla 等離子去膠機，最新推出的具有高性價比的真空等離子去膠設備，配備了一個圓筒石英腔，特別適用于半導體、led、mems等領域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物刻蝕、表面清潔等應用的批次處理。
更新時間:2025-12-17
208hr高分辨離子濺射儀-適用于場發(fā)射掃描電鏡，可選擇多種鍍膜材料，精確的膜厚控制，樣品臺控制靈活，多個樣品座，樣品室?guī)缀慰勺?，寬范圍的操作壓力，緊湊、現(xiàn)代的桌上型設計，操作容易。
更新時間:2025-12-17
ksi v-quattro四探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，四探頭系統(tǒng)，同時使用4只換能器
更新時間:2025-12-17
ksi v-octo 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，該系統(tǒng)同時使用8只換能器，能最大限度的確保快速圖像采集和高效能。
更新時間:2025-12-17
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