光學(xué)平臺(tái)產(chǎn)品及廠家

解決方案PsyLAB智能人因測(cè)試云平臺(tái)
psylab智能人因測(cè)試云平臺(tái)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介psylab智能人因測(cè)試云平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問卷、量表以及行為
更新時(shí)間:2025-12-18
解決方案PsyLAB心理測(cè)試云平臺(tái)
psylab心理測(cè)試云平臺(tái)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介psylab心理測(cè)試云平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問卷、量表以及行為實(shí)驗(yàn)范式
更新時(shí)間:2025-12-18
ANSYS自動(dòng)駕駛仿真驗(yàn)證平臺(tái)
1.      系統(tǒng)方案ansys高精度自動(dòng)駕駛仿真驗(yàn)證平臺(tái)提供了基于物理的三維場(chǎng)景建模、基于語(yǔ)義的道路事件建模、基于物理光學(xué)屬性的攝像頭和激光雷達(dá)的仿真、基于物理電磁學(xué)屬性的毫米波雷達(dá)的仿真，從而實(shí)現(xiàn)多傳感器
更新時(shí)間:2025-12-18
ergolab虛擬仿真教學(xué)實(shí)驗(yàn)平臺(tái)一、平臺(tái)簡(jiǎn)介ergolab虛擬仿真教學(xué)實(shí)驗(yàn)平臺(tái)由ergolab人因測(cè)試子平臺(tái)、ergolab人因數(shù)據(jù)分析子平臺(tái)、ergolab人因心理試驗(yàn)臺(tái)等部分組成。平臺(tái)融合了認(rèn)知與心理測(cè)試、生理測(cè)量等人因研究技術(shù)，能夠
更新時(shí)間:2025-12-18
PsyLAB人因測(cè)試云平臺(tái)
psylab人因測(cè)試云平臺(tái)一、系統(tǒng)簡(jiǎn)介人因測(cè)試云平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機(jī)-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論，自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評(píng)價(jià)與測(cè)試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對(duì)被試進(jìn)行主觀施測(cè)，包括問卷、量表以及行為實(shí)驗(yàn)范式的施測(cè)。系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-12-18
解決方案ErgoLABInteraction交互行為分析平臺(tái)
ergolab interaction交互行為分析平臺(tái)一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介ergolab interaction交互行為分析平臺(tái)，是津發(fā)科技依據(jù)“人因工程與工效學(xué)”和“人-信息-物理系統(tǒng)”理論自主研發(fā)的、面向產(chǎn)品及原型的多模態(tài)主客觀交互行為測(cè)評(píng)與分
更新時(shí)間:2025-12-18
解決方案ErgoLAB虛擬仿真教學(xué)實(shí)訓(xùn)平臺(tái)
ergolab虛擬仿真教學(xué)實(shí)訓(xùn)平臺(tái)一、平臺(tái)簡(jiǎn)介ergolab虛擬仿真教學(xué)實(shí)訓(xùn)平臺(tái)由ergolab人因測(cè)試子平臺(tái)、ergolab人因數(shù)據(jù)分析子平臺(tái)、ergolab人因心理試驗(yàn)臺(tái)等部分組成。平臺(tái)融合了認(rèn)知與心理測(cè)試、生理測(cè)量等人因研究技術(shù)，能夠
更新時(shí)間:2025-12-18
解決方案ErgoLAB組合式智能可穿戴生理測(cè)量平臺(tái)
ergolab組合式智能可穿戴生理測(cè)量平臺(tái)一、平臺(tái)概述ergolab組合式智能可穿戴生理測(cè)量平臺(tái)是北京津發(fā)科技股份有限公司自主研發(fā)的可穿戴便攜式生理信號(hào)記錄工具，適用于多種實(shí)驗(yàn)環(huán)境。平臺(tái)采用多傳感器融合技術(shù)及算法，單個(gè)傳感器能夠采集多通道生
更新時(shí)間:2025-12-18
北京聯(lián)英精機(jī)精密隔振光學(xué)平臺(tái)GZ01光學(xué)平板面包板自水平大理石氣墊精密隔震光學(xué)平臺(tái)光學(xué)測(cè)量實(shí)驗(yàn)測(cè)試工作平臺(tái)
北京聯(lián)英精機(jī)精密隔振光學(xué)平臺(tái)gz01光學(xué)平板面包板自水平大理石氣墊精密隔震光學(xué)平臺(tái)光學(xué)測(cè)量實(shí)驗(yàn)測(cè)試工作平臺(tái)
更新時(shí)間:2025-12-17
北京聯(lián)英精機(jī)光學(xué)平板PB01光學(xué)平臺(tái)面包板自水平大理石氣墊精密隔振光學(xué)平臺(tái)光學(xué)測(cè)量實(shí)驗(yàn)測(cè)試工作平臺(tái)
北京聯(lián)英精機(jī)光學(xué)平板pb01光學(xué)平臺(tái)面包板自水平大理石氣墊精密隔振光學(xué)平臺(tái)光學(xué)測(cè)量實(shí)驗(yàn)測(cè)試工作平臺(tái)北京聯(lián)英精機(jī)光學(xué)平板pb01光學(xué)平臺(tái)面包板自水平大理石氣墊精密隔振光學(xué)平臺(tái)光學(xué)測(cè)量實(shí)驗(yàn)測(cè)試工作平臺(tái)
更新時(shí)間:2025-12-17
北京聯(lián)英精機(jī)氣墊精密隔振光學(xué)平臺(tái)QD01光學(xué)平板面包板自水平大理石隔震光學(xué)平臺(tái)光學(xué)測(cè)量實(shí)驗(yàn)測(cè)試工作平臺(tái)
北京聯(lián)英精機(jī)氣墊精密隔振光學(xué)平臺(tái)qd01光學(xué)平板面包板自水平大理石隔震光學(xué)平臺(tái)光學(xué)測(cè)量實(shí)驗(yàn)測(cè)試工作平臺(tái)
更新時(shí)間:2025-12-17
中海油平臺(tái)供應(yīng)商-VAL-TEX沃泰斯
去年下半年以來煤炭需求回升、價(jià)格上漲，是正常的短期波動(dòng)；我國(guó)能源結(jié)構(gòu)調(diào)整速度進(jìn)一步加快，可再生能源已進(jìn)入規(guī)?；l(fā)展新階段。目前，我國(guó)水電、風(fēng)電、光伏發(fā)電裝機(jī)容量已穩(wěn)居*7月21日，能源局召開新聞發(fā)布會(huì)，介紹上半年能源形勢(shì)和可再生能源及風(fēng)電、
更新時(shí)間:2025-12-17
rkinElmerTHGA平臺(tái)石墨管（B0504033）
rkin elmer thga石墨管,屬于橫向加熱石墨管，適用于 aanalyst 600/800、4100zl、4110zl、5100zl 和 simaa 6000 型號(hào)，塞曼石墨爐隨附一個(gè)集成的 l'vov 平臺(tái)。這一設(shè)計(jì)可
更新時(shí)間:2025-12-17
URE-2000B 型紫外單面光刻機(jī)
ure-2000b 型紫外單面光刻機(jī)，曝光面積：100mmx100mm，分辨力：0.8μm（膠厚 2μm 的正膠）
更新時(shí)間:2025-12-17
URE-2000/600 紫外單面光刻機(jī)
ure-2000/600 紫外單面光刻機(jī)，光束口徑： 650mm×650mm，對(duì)準(zhǔn)精度： ±1.5μm
更新時(shí)間:2025-12-17
無掩膜單面光刻機(jī)
ds-2000/14k 無掩膜單面光刻機(jī)，采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素?cái)?shù) 1024×768，采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
更新時(shí)間:2025-12-17
型無掩模單面光刻機(jī)
ds-2000/14g 型無掩模單面光刻機(jī),采用 dmd 作為數(shù)字掩模，像素?cái)?shù) 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像，分辨力 1um。
更新時(shí)間:2025-12-17
美國(guó)OAI紫外光刻機(jī)
oai的面板掩模光刻機(jī) model 6020s, 用于foplp型號(hào)6020s -半自動(dòng)化或自動(dòng)化,實(shí)現(xiàn)500mm x 500mm 晶圓尺寸的fo-plp加工.
更新時(shí)間:2025-12-17
離子束刻蝕系統(tǒng)
nie-4000 離子束刻蝕系統(tǒng)，nir-4000 ibe/rie 雙刻蝕系統(tǒng)，通過加速的 ar 離子進(jìn)行物理刻蝕或銑削。對(duì)于硅的化合物也可以通過反應(yīng)離子束刻蝕的方式提高刻蝕速率和深寬比。
更新時(shí)間:2025-12-17
納米壓痕儀
hysitron ti 980 納米壓痕儀bruker hysitron ti 980 triboindenter 加速納米力學(xué)研究進(jìn)入更高階段,同時(shí)具有高的性能、靈活性、可信度、實(shí)用性和速度。基于海思創(chuàng)幾十年的技術(shù)創(chuàng)新，它為納米力學(xué)表征帶來了高水平的性能、功能和易用性。ti 980達(dá)到了臺(tái)優(yōu)異納米力學(xué)測(cè)試儀
更新時(shí)間:2025-12-17
全自動(dòng)超聲波掃描顯微鏡
echo pro 全自動(dòng)超聲波掃描顯微鏡美 sonix 全自動(dòng)超聲波掃描顯微鏡echo pro , 批量 tray盤和框架直接掃瞄, 編程自動(dòng)判別缺陷, 高產(chǎn)量,無需人員重復(fù)設(shè)置, 自動(dòng)烘干.
更新時(shí)間:2025-12-17
日本Elionix微細(xì)加式電子束曝光電子束直寫機(jī)
日本elionix 微細(xì)加式電子束曝光電子束直寫機(jī)els-f125，是elionix推出的上臺(tái)加速電壓達(dá)125kv的電子束曝光系統(tǒng)，其可加工線寬下限為5nm的精細(xì)圖形。
更新時(shí)間:2025-12-17
日本Elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng)
日本elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng) els-f150, 是上第 個(gè)150千伏電子束光刻系統(tǒng)。支持單位納米用于高研究的設(shè)備制造。
更新時(shí)間:2025-12-17
德國(guó)MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)
octoplus 500 mbe系統(tǒng)是為了在6英寸襯底上生長(zhǎng)高質(zhì)量的iii/v族或者ii-vi族異質(zhì)結(jié)構(gòu)材料而研發(fā)業(yè)分子束外延系統(tǒng)。樣品臺(tái)選用熱解石墨加熱或者鎢、鉭加熱絲。標(biāo)準(zhǔn)的octoplus 500有11個(gè)呈放射狀分布的源孔，可以根據(jù)需要增選3個(gè)源孔。
更新時(shí)間:2025-12-17
德國(guó)Leica 全新精研一體機(jī)
德國(guó)leica em txp全新精研一體機(jī)，是一款獨(dú)特的可對(duì)目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行精確定位的表面處理工具，特別適合于sem，tem及l(fā)m觀察之對(duì)樣品進(jìn)行切割、拋光等系列處理。它尤其適合于制備高難度樣品，如需要對(duì)目標(biāo)精細(xì)定位或需對(duì)肉眼難以觀察的微小目標(biāo)進(jìn)行定點(diǎn)處理。
更新時(shí)間:2025-12-17
基恩士KEYENCE形狀測(cè)量激光顯微系統(tǒng)
keyence 基恩士 形狀測(cè)量激光顯微系統(tǒng)全新 vk-x3000，納米 / 微米 / 毫米，一臺(tái)即可完成測(cè)量。292 種分析工具，一臺(tái)即可了解希望獲取的信息。一臺(tái)即包含了光學(xué)顯微鏡，臺(tái)階儀，光學(xué)輪廓儀，及電鏡功能。
更新時(shí)間:2025-12-17
日本Elionix電子束光刻機(jī)
els-boden 新型電子束光刻系統(tǒng),高速掃描400mhz頻率生產(chǎn)
更新時(shí)間:2025-12-17
海德堡桌面無掩模光刻機(jī)
日本電子 jsm-7610fplus，用于納米科學(xué)的肖特基場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡， 是款采用半浸沒式物鏡、擁有超高分辨率的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯heidelberg 海德堡 μmla桌面無掩模光刻機(jī)
更新時(shí)間:2025-12-17
德國(guó)海德堡 激光直寫光刻機(jī)
dwl 66+激光光刻系統(tǒng)是具經(jīng)濟(jì)效益的高分辨率圖像產(chǎn)生器, 具有多種直寫模塊，實(shí)現(xiàn)不同精度直寫需求, 能于結(jié)構(gòu)上進(jìn)行灰度曝光
更新時(shí)間:2025-12-17
德國(guó)海德堡 Heidelberg 激光直寫光刻機(jī)
德國(guó)海德堡 heidelberg 激光直寫光刻機(jī) mla150,德國(guó)高精密激光直寫繪圖機(jī),非接觸式曝光,可支持高效數(shù)位光刻與灰度光刻.
更新時(shí)間:2025-12-17
英國(guó)Nanobean 電子束光刻機(jī)
英國(guó)nanobean nb5 電子束光刻機(jī),具有良好的穩(wěn)定性，平均正常運(yùn)行時(shí)間超過93%.
更新時(shí)間:2025-12-17
瑞典 Mycronic 掩膜版光刻機(jī)
瑞典 mycronic 掩膜版光刻機(jī) fps6100，用于制作高精度掩膜版，廣泛用于半導(dǎo)體，tft-lcd，微電子等行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-12-17
瑞典 Mycronic 光刻機(jī)
主要優(yōu)勢(shì)提高分辨率 25%更佳的貼片性能 70%更快的寫入速度20%
更新時(shí)間:2025-12-17
德Raith 電子束光刻機(jī)
系統(tǒng)中集成了高精度的激光干涉工作臺(tái)，運(yùn)動(dòng)行程為50 x 50 x 25mm，xy方向定位精度為2nm，可以實(shí)現(xiàn)精確的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。
更新時(shí)間:2025-12-17
德國(guó)Raith 電子束光刻機(jī)
ebpg5150使用了155mm大小的樣品臺(tái)，采用跟ebpg5200一樣的通用光刻平臺(tái)設(shè)計(jì)，對(duì)電子束直寫應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。
更新時(shí)間:2025-12-17
德國(guó)Raith Voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機(jī)
德國(guó)raith voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機(jī),系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)8英寸樣品的高速曝光。系統(tǒng)的穩(wěn)定性是非常關(guān)鍵的指標(biāo)，可保證大面積均勻曝光。該系統(tǒng)外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下，仍然能確保系統(tǒng)具有非常好的熱穩(wěn)定性，提高系統(tǒng)對(duì)外界環(huán)境的容忍度。
更新時(shí)間:2025-12-17
德國(guó) Raith 150 Two 高分辨電子束曝光系統(tǒng)
raith 150 two可實(shí)現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設(shè)備對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的容忍度，即使在相對(duì)糟糕的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運(yùn)行。
更新時(shí)間:2025-12-17
瑞士 NanoFrazor 3D納米結(jié)構(gòu)高速直寫機(jī)
raith 150 two可實(shí)現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設(shè)備對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的容忍度，即使在相對(duì)糟糕的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運(yùn)行。
更新時(shí)間:2025-12-17
德國(guó)Eulitha 高分辨紫外光刻系統(tǒng)
phabler 100 紫外光刻機(jī)是一套低成本的光學(xué)曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結(jié)構(gòu)。同傳統(tǒng)的紫外曝光機(jī)類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司擁有突破性的phable 曝光技術(shù)，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結(jié)果非常均勻，質(zhì)量很好。
更新時(shí)間:2025-12-17
英國(guó)HHV 科研工作者和電子顯微學(xué)家的多功能鍍膜設(shè)備
英國(guó)hhv auto 306 科研工作者和電子顯微學(xué)家的多功能鍍膜設(shè)備，是一種多功能的緊湊型鍍膜設(shè)備，設(shè)計(jì)用于滿足科研工作者和電子顯微學(xué)家的需求。auto306可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標(biāo)準(zhǔn)化工藝附件，提供一系列實(shí)驗(yàn)技術(shù)以滿足現(xiàn)代化實(shí)驗(yàn)室的需要。
更新時(shí)間:2025-12-17
英國(guó)HHV適合先進(jìn)研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)
tf500/tf600 適合先進(jìn)研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)，系統(tǒng)配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件，以精確的符合用戶需求。這兩個(gè)型號(hào)的系統(tǒng)都可以安裝多個(gè)鍍膜源，也都支持離子束處理選項(xiàng)。有一系列預(yù)進(jìn)樣室（load lock）和樣品操縱裝置可供選擇，以提高真空鍍膜效率。
更新時(shí)間:2025-12-17
德國(guó) PVA TePla 等離子去膠機(jī)
ion 100wb-40q 德國(guó) pva tepla 等離子去膠機(jī)，最新推出的具有高性價(jià)比的真空等離子去膠設(shè)備，配備了一個(gè)圓筒石英腔，特別適用于半導(dǎo)體、led、mems等領(lǐng)域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物刻蝕、表面清潔等應(yīng)用的批次處理。
更新時(shí)間:2025-12-17
美國(guó)TED 高分辨離子濺射儀
208hr高分辨離子濺射儀-適用于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡，可選擇多種鍍膜材料，精確的膜厚控制，樣品臺(tái)控制靈活，多個(gè)樣品座，樣品室?guī)缀慰勺?，寬范圍的操作壓力，緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計(jì)，操作容易。
更新時(shí)間:2025-12-17
全自動(dòng)上側(cè)或后側(cè)光刻機(jī)
oai 6000 fsa 全自動(dòng)上側(cè)或后側(cè)光刻機(jī),具有完全自動(dòng)化的亞微米分辨率的頂側(cè)或背側(cè)對(duì)齊，提供無與倫比的性價(jià)比。
更新時(shí)間:2025-12-17
德國(guó)KSI 四探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi v-quattro四探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，四探頭系統(tǒng)，同時(shí)使用4只換能器
更新時(shí)間:2025-12-17
德國(guó) KSI 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi v-octo 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，該系統(tǒng)同時(shí)使用8只換能器，能最大限度的確?？焖賵D像采集和高效能。
更新時(shí)間:2025-12-17
KSI 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡
ksi v1000e 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡，用于研發(fā)和生產(chǎn)部門檢測(cè)特大件樣品
更新時(shí)間:2025-12-17
德國(guó)KSI 單探頭超聲波掃描顯微鏡
ksi v700e 單探頭超聲波掃描顯微鏡，用于檢測(cè)大件樣品
更新時(shí)間:2025-12-17

最新產(chǎn)品

熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計(jì) 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗(yàn)機(jī) 酸度計(jì)（PH計(jì)） 離心機(jī) 高速離心機(jī) 冷凍離心機(jī) 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑