旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀產(chǎn)品及廠家

 NEE-4000 (M) 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
nee-4000(m)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)概述:nano-master nee-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置,其中樣品臺位于主腔體內(nèi),二級腔體則用于安置電子束源。這種在兩個腔體之間帶有門閥的配置可以作為預真空鎖,使得電子束源腔體保持真空的情況下,實現(xiàn)基片通過主腔體放入基片到樣平臺(或夾具)上或從中取出。在需要自動裝/卸載基片時,他可以通過第三方的預真空鎖來實現(xiàn),這可以設(shè)置于立方體的左側(cè)。通過pc計算機控制,系統(tǒng)可以提供多電子束源的共蒸發(fā)能力,以及對組分或組分梯度進行編程的能力
更新時間:2025-12-17
NEE-4000 (A) 全自動電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
nano-master nee-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)有兩種不同的構(gòu)造可供選擇。第一種為垂直緊連的雙腔架構(gòu),其中主腔體是14英寸的立方體,其內(nèi)有樣品臺,底部二級腔體則用于安置電子束源。這種構(gòu)造可在兩個腔體之間裝有門閥互鎖,可實現(xiàn)主腔體放取片過程保持電子束源和坩堝的真空狀態(tài)。若需實現(xiàn)自動上下片,通過在主腔體左邊增加帶真空閥門的進樣室即可。這樣,主腔體可以持續(xù)保持10-7托范圍的低壓,裝片后幾分鐘內(nèi)就可進行蒸鍍。第二種構(gòu)造為一個獨立大腔體,基板上安裝電子束蒸鍍腔、磁控槍和熱蒸鍍。該構(gòu)造可涂覆多種尺寸的晶圓,過程中使用行星運動的樣品臺。
更新時間:2025-12-17
NTE-3500 (M) 熱蒸發(fā)系統(tǒng)
nte-3500(m)熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述:nano-master nte-3500是一款pc計算機控制的臺緊湊型立式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的設(shè)計經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復的工藝過程。它們具有低價格, 高性能以及高能力的特點,可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要求。 nte-3500熱蒸發(fā)系統(tǒng)可以在設(shè)定的rms電流下,或者在閉環(huán)的配置下操作,并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調(diào)節(jié)rms電流以維持恒定的沉積速度。
更新時間:2025-12-17
NTE-3500 (A) 全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)
nte-3500(a)全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述:nano-master nte-3000是一款pc計算機控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的設(shè)計經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復的工藝過程。它們具有低價格, 高性能以及高能力的特點,可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要求。 nte-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)可以在設(shè)定的rms電流下,或者在閉環(huán)的配置下操作,并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調(diào)節(jié)rms電流以維持恒定的沉積速度。
更新時間:2025-12-17
NTE-4000 (M) 熱蒸發(fā)系統(tǒng)
nte-4000(m)熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述:nano-master nte-4000是一款pc計算機控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的設(shè)計經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復的工藝過程。它們具有低價格, 高性能以及高能力的特點,可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要求。 nte-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)可以在設(shè)定的rms電流下,或者在閉環(huán)的配置下操作,并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調(diào)節(jié)rms電流以維持恒定的沉積速度。
更新時間:2025-12-17

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