nsc-3000（m）磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，最大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

nsc-3000（a）全自動磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，最大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

易于使用的基本濺射涂布機(jī)，用于sem樣品的金涂層