光學平臺產(chǎn)品及廠家

BIPV-B 智能建筑綜合設計平臺
本實驗裝置是基于國家大學生創(chuàng)新實驗項目和競賽項目的基礎上改進完善提高后定型的。是結合了智能家居、智能樓宇的設計理念,融合光電技術、物聯(lián)網(wǎng)技術,嵌入式技術等等為一體的綜合性設計開發(fā)平臺,該裝置設計理念先進,科技含量高,綜合性強,屬于多學科交叉的實驗儀器,實驗設計平臺的各個部分,既有與光電、傳感器等的原理密切相關的基礎實驗,又有利用無線組網(wǎng)傳感、手機遠程
更新時間:2025-12-18
LEDSD-B LED光電特性與色度學測量綜合實驗平臺
:led(light emitting diode),半導體發(fā)光二極管,是一種固態(tài)的半導體器件,它可以直接把電轉化為光,以其低功耗,高效率,高穩(wěn)定型等特點在照明、光通信等領域逐步替代傳統(tǒng)光源。對led的各項參數(shù)的理解與測試方式的掌握是開發(fā)應用此類器件的基礎。采用新光電器件及現(xiàn)在工業(yè)廣泛應用的測試方法開發(fā)的此套教學實驗產(chǎn)品適用于光電專業(yè)本科生基礎光電實驗及高職院校學生實訓課程。
更新時間:2025-12-18
GXPT-A 基礎光學綜合設計平臺
麥克斯韋電磁理論揭示了光是一種電磁波,可見光是波長在300-800nm范圍的電磁波。光的干涉與衍射現(xiàn)象說明了光的波動性,光的偏振和在光學各項異性晶體中的雙折射現(xiàn)象則顯示了光的橫波性,這些都是對光的電磁理論的有力證明。本實驗裝置提供了一個可以自由組裝多種觀測光的波動特性和橫波特性的綜合實驗平臺,學生可自己設計和組裝測量儀器完成各種基礎光學實驗。通過增加測試模塊和附件,還可以搭建和組裝分光計和光譜儀,
更新時間:2025-12-18
北京聯(lián)英精機精密隔振光學平臺GZ01光學平板面包板自水平大理石氣墊精密隔震光學平臺光學測量實驗測試工作平臺
北京聯(lián)英精機精密隔振光學平臺gz01光學平板面包板自水平大理石氣墊精密隔震光學平臺光學測量實驗測試工作平臺
更新時間:2025-12-17
北京聯(lián)英精機光學平板PB01光學平臺面包板自水平大理石氣墊精密隔振光學平臺光學測量實驗測試工作平臺
北京聯(lián)英精機光學平板pb01光學平臺面包板自水平大理石氣墊精密隔振光學平臺光學測量實驗測試工作平臺北京聯(lián)英精機光學平板pb01光學平臺面包板自水平大理石氣墊精密隔振光學平臺光學測量實驗測試工作平臺
更新時間:2025-12-17
北京聯(lián)英精機氣墊精密隔振光學平臺QD01光學平板面包板自水平大理石隔震光學平臺光學測量實驗測試工作平臺
北京聯(lián)英精機氣墊精密隔振光學平臺qd01光學平板面包板自水平大理石隔震光學平臺光學測量實驗測試工作平臺
更新時間:2025-12-17
中海油平臺供應商-VAL-TEX沃泰斯
去年下半年以來煤炭需求回升、價格上漲,是正常的短期波動;我國能源結構調(diào)整速度進一步加快,可再生能源已進入規(guī)模化發(fā)展新階段。目前,我國水電、風電、光伏發(fā)電裝機容量已穩(wěn)居*7月21日,能源局召開新聞發(fā)布會,介紹上半年能源形勢和可再生能源及風電、
更新時間:2025-12-17
rkinElmerTHGA平臺石墨管(B0504033)
rkin elmer thga石墨管,屬于橫向加熱石墨管,適用于 aanalyst 600/800、4100zl、4110zl、5100zl 和 simaa 6000 型號,塞曼石墨爐隨附一個集成的 l'vov 平臺。這一設計可
更新時間:2025-12-17
ANSYS自動駕駛仿真驗證平臺
1.      系統(tǒng)方案ansys高精度自動駕駛仿真驗證平臺提供了基于物理的三維場景建模、基于語義的道路事件建模、基于物理光學屬性的攝像頭和激光雷達的仿真、基于物理電磁學屬性的毫米波雷達的仿真,從而實現(xiàn)多傳感器
更新時間:2025-12-17
ErgoLABErgoLAB人機環(huán)境同步云平臺
ergolab人機環(huán)境同步云平臺,是集科學化、集成化、智能化于一體的系統(tǒng)工程工具與解決方案產(chǎn)品,可以與人、機器、環(huán)境數(shù)據(jù)進行同步采集與綜合人機工效分析;尤其是人工智能時代根據(jù)人-信息-物理系統(tǒng)(hcps)理論,對人-機-環(huán)境系統(tǒng)從人-信息系
更新時間:2025-12-17
解決方案PsyLAB心理評估云平臺系統(tǒng)
psylab心理評估云平臺系統(tǒng)一、系統(tǒng)簡介psylab心理評估云平臺系統(tǒng)是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論,自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進行主觀施測,包括問卷、量表以及行為
更新時間:2025-12-17
Vizard交互虛擬現(xiàn)實開發(fā)平臺
vizard交互虛擬現(xiàn)實開發(fā)平臺
更新時間:2025-12-17
PsyLAB人因測試云平臺
psylab人因測試云平臺一、系統(tǒng)簡介人因測試云平臺是北京津發(fā)科技股份有限公司基于“人-機-環(huán)境”和“人-信息-物理”系統(tǒng)理論,自主創(chuàng)新與配置的主觀量化評價與測試系統(tǒng)。系統(tǒng)可用于對被試進行主觀施測,包括問卷、量表以及行為實驗范式的施測。系統(tǒng)
更新時間:2025-12-17
GB8050LED防爆燈30W-GB8050LED防爆平臺燈50W
gb8050led防爆燈30w-gb8050led防爆平臺燈50w適用于化工廠房、倉庫、鍋爐房、儲存間、罐區(qū)、鋼廠等車間或廠房作固定照明
更新時間:2025-12-17
URE-2000B 型紫外單面光刻機
ure-2000b 型紫外單面光刻機,曝光面積:100mmx100mm,分辨力:0.8μm(膠厚 2μm 的正膠)
更新時間:2025-12-17
URE-2000/600 紫外單面光刻機
ure-2000/600 紫外單面光刻機,光束口徑: 650mm×650mm,對準精度: ±1.5μm
更新時間:2025-12-17
無掩膜單面光刻機
ds-2000/14k 無掩膜單面光刻機,采用 dmd 作為數(shù)字掩模,像素數(shù) 1024×768,采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
更新時間:2025-12-17
型無掩模單面光刻機
ds-2000/14g 型無掩模單面光刻機,采用 dmd 作為數(shù)字掩模,像素數(shù) 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三種選配,采用縮小投影光刻物鏡成像,分辨力 1um。
更新時間:2025-12-17
美國OAI紫外光刻機
oai的面板掩模光刻機 model 6020s, 用于foplp型號6020s -半自動化或自動化,實現(xiàn)500mm x 500mm 晶圓尺寸的fo-plp加工.
更新時間:2025-12-17
離子束刻蝕系統(tǒng)
nie-4000 離子束刻蝕系統(tǒng),nir-4000 ibe/rie 雙刻蝕系統(tǒng),通過加速的 ar 離子進行物理刻蝕或銑削。對于硅的化合物也可以通過反應離子束刻蝕的方式提高刻蝕速率和深寬比。
更新時間:2025-12-17
納米壓痕儀
hysitron ti 980 納米壓痕儀bruker hysitron ti 980 triboindenter 加速納米力學研究進入更高階段,同時具有高的性能、靈活性、可信度、實用性和速度?;诤K紕?chuàng)幾十年的技術創(chuàng)新,它為納米力學表征帶來了高水平的性能、功能和易用性。ti 980達到了臺優(yōu)異納米力學測試儀
更新時間:2025-12-17
全自動超聲波掃描顯微鏡
echo pro 全自動超聲波掃描顯微鏡美 sonix 全自動超聲波掃描顯微鏡echo pro , 批量 tray盤和框架直接掃瞄, 編程自動判別缺陷, 高產(chǎn)量,無需人員重復設置, 自動烘干.
更新時間:2025-12-17
日本Elionix微細加式電子束曝光電子束直寫機
日本elionix 微細加式電子束曝光電子束直寫機els-f125,是elionix推出的上臺加速電壓達125kv的電子束曝光系統(tǒng),其可加工線寬下限為5nm的精細圖形。
更新時間:2025-12-17
日本Elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng)
日本elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng) els-f150, 是上第 個150千伏電子束光刻系統(tǒng)。支持單位納米用于高研究的設備制造。
更新時間:2025-12-17
德國MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)
octoplus 500 mbe系統(tǒng)是為了在6英寸襯底上生長高質(zhì)量的iii/v族或者ii-vi族異質(zhì)結構材料而研發(fā)業(yè)分子束外延系統(tǒng)。樣品臺選用熱解石墨加熱或者鎢、鉭加熱絲。標準的octoplus 500有11個呈放射狀分布的源孔,可以根據(jù)需要增選3個源孔。
更新時間:2025-12-17
德國Leica 全新精研一體機
德國leica em txp全新精研一體機,是一款獨特的可對目標區(qū)域進行精確定位的表面處理工具,特別適合于sem,tem及l(fā)m觀察之對樣品進行切割、拋光等系列處理。它尤其適合于制備高難度樣品,如需要對目標精細定位或需對肉眼難以觀察的微小目標進行定點處理。
更新時間:2025-12-17
基恩士KEYENCE形狀測量激光顯微系統(tǒng)
keyence 基恩士 形狀測量激光顯微系統(tǒng)全新 vk-x3000,納米 / 微米 / 毫米,一臺即可完成測量。292 種分析工具,一臺即可了解希望獲取的信息。一臺即包含了光學顯微鏡,臺階儀,光學輪廓儀,及電鏡功能。
更新時間:2025-12-17
日本Elionix電子束光刻機
els-boden 新型電子束光刻系統(tǒng),高速掃描400mhz頻率生產(chǎn)
更新時間:2025-12-17
海德堡桌面無掩模光刻機
日本電子 jsm-7610fplus,用于納米科學的肖特基場發(fā)射掃描電子顯微鏡, 是款采用半浸沒式物鏡、擁有超高分辨率的場發(fā)射掃描電子顯heidelberg 海德堡 μmla桌面無掩模光刻機
更新時間:2025-12-17
德國海德堡 激光直寫光刻機
dwl 66+激光光刻系統(tǒng)是具經(jīng)濟效益的高分辨率圖像產(chǎn)生器, 具有多種直寫模塊,實現(xiàn)不同精度直寫需求, 能于結構上進行灰度曝光
更新時間:2025-12-17
德國海德堡 Heidelberg 激光直寫光刻機
德國海德堡 heidelberg 激光直寫光刻機 mla150,德國高精密激光直寫繪圖機,非接觸式曝光,可支持高效數(shù)位光刻與灰度光刻.
更新時間:2025-12-17
英國Nanobean  電子束光刻機
英國nanobean nb5 電子束光刻機,具有良好的穩(wěn)定性,平均正常運行時間超過93%.
更新時間:2025-12-17
瑞典 Mycronic 掩膜版光刻機
瑞典 mycronic 掩膜版光刻機 fps6100,用于制作高精度掩膜版,廣泛用于半導體,tft-lcd,微電子等行業(yè)。
更新時間:2025-12-17
瑞典 Mycronic 光刻機
主要優(yōu)勢提高分辨率 25%更佳的貼片性能 70%更快的寫入速度20%
更新時間:2025-12-17
德Raith 電子束光刻機
系統(tǒng)中集成了高精度的激光干涉工作臺,運動行程為50 x 50 x 25mm,xy方向定位精度為2nm,可以實現(xiàn)精確的拼接套刻,拼接套刻精度≤50nm。
更新時間:2025-12-17
德國Raith   電子束光刻機
ebpg5150使用了155mm大小的樣品臺,采用跟ebpg5200一樣的通用光刻平臺設計,對電子束直寫應用進行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。
更新時間:2025-12-17
德國Raith Voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機
德國raith voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機,系統(tǒng)可實現(xiàn)8英寸樣品的高速曝光。系統(tǒng)的穩(wěn)定性是非常關鍵的指標,可保證大面積均勻曝光。該系統(tǒng)外部采用環(huán)境屏蔽罩,即使在稍差的實驗室環(huán)境下,仍然能確保系統(tǒng)具有非常好的熱穩(wěn)定性,提高系統(tǒng)對外界環(huán)境的容忍度。
更新時間:2025-12-17
德國 Raith  150 Two 高分辨電子束曝光系統(tǒng)
raith 150 two可實現(xiàn)亞5nm的曝光結構,可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性,提高設備對實驗室環(huán)境的容忍度,即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下,也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運行。
更新時間:2025-12-17
瑞士 NanoFrazor 3D納米結構高速直寫機
raith 150 two可實現(xiàn)亞5nm的曝光結構,可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性,提高設備對實驗室環(huán)境的容忍度,即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下,也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運行。
更新時間:2025-12-17
德國Eulitha 高分辨紫外光刻系統(tǒng)
phabler 100 紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統(tǒng),但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統(tǒng)的紫外曝光機類似,涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于eulitha公司擁有突破性的phable 曝光技術,在"phable"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵(六角形和正方形),且曝光結果非常均勻,質(zhì)量很好。
更新時間:2025-12-17
英國HHV  科研工作者和電子顯微學家的多功能鍍膜設備
英國hhv auto 306 科研工作者和電子顯微學家的多功能鍍膜設備,是一種多功能的緊湊型鍍膜設備,設計用于滿足科研工作者和電子顯微學家的需求。auto306可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標準化工藝附件,提供一系列實驗技術以滿足現(xiàn)代化實驗室的需要。
更新時間:2025-12-17
英國HHV適合先進研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)
tf500/tf600 適合先進研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng),系統(tǒng)配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件,以精確的符合用戶需求。這兩個型號的系統(tǒng)都可以安裝多個鍍膜源,也都支持離子束處理選項。有一系列預進樣室(load lock)和樣品操縱裝置可供選擇,以提高真空鍍膜效率。
更新時間:2025-12-17
德國 PVA TePla 等離子去膠機
ion 100wb-40q 德國 pva tepla 等離子去膠機,最新推出的具有高性價比的真空等離子去膠設備,配備了一個圓筒石英腔,特別適用于半導體、led、mems等領域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物刻蝕、表面清潔等應用的批次處理。
更新時間:2025-12-17
美國TED 高分辨離子濺射儀
208hr高分辨離子濺射儀-適用于場發(fā)射掃描電鏡,可選擇多種鍍膜材料,精確的膜厚控制,樣品臺控制靈活,多個樣品座,樣品室?guī)缀慰勺?,寬范圍的操作壓力,緊湊、現(xiàn)代的桌上型設計,操作容易。
更新時間:2025-12-17
全自動上側或后側光刻機
oai 6000 fsa 全自動上側或后側光刻機,具有完全自動化的亞微米分辨率的頂側或背側對齊,提供無與倫比的性價比。
更新時間:2025-12-17
德國KSI 四探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi v-quattro四探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng),四探頭系統(tǒng),同時使用4只換能器
更新時間:2025-12-17
德國 KSI 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi v-octo 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng),該系統(tǒng)同時使用8只換能器,能最大限度的確??焖賵D像采集和高效能。
更新時間:2025-12-17
KSI 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡
ksi v1000e 單探頭多用途超聲波掃描顯微鏡,用于研發(fā)和生產(chǎn)部門檢測特大件樣品
更新時間:2025-12-17

最新產(chǎn)品

熱門儀器: 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗機 酸度計(PH計) 離心機 高速離心機 冷凍離心機 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標準物質(zhì) 生物試劑