等離子清洗器產品及廠家

HK-LTPS100A低溫等離子體滅菌系統/滅菌儀
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統是新代醫(yī)用滅菌設備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術。可以對不耐濕熱的器械進行低溫快速滅菌。特別是對醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導線、電池等）和非金屬類（如導管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢明顯
更新時間:2025-12-17
NPE-4000 (A) 全自動PECVD等離子體化學氣相沉積系統
npe-4000（a）全自動pecvd等離子體化學氣相沉積系統概述：nano-master pecvd系統能夠沉積高質量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達6” 直徑的基片上.該系統采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以達到低至10-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個mfc.帶有獨一無二氣體分布系統的平面中空陰極等離子源使得系統可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數。
更新時間:2025-12-17
LSC-5000 (AD) 全自動兆聲大基片濕法去膠系統
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-12-17
NPC-4000 (M) 等離子清洗機
npc-4000（m）等離子清洗機概述：nano-master 等離子刻蝕和清洗系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-12-17
NPC-3500 (A) 全自動等離子清洗機去膠機
npc-3500（a）全自動等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-12-17
SWC-4000 (M) 兆聲掩模板清洗機
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-12-17
SWC-3000 (D) 兆聲輔助光刻膠剝離系統
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-12-17
NPC-4000 (A) 全自動等離子清洗機去膠機
npc-4000（a）全自動等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-12-17
NIE-3500 (MC) 離子束清洗系統
nie-3500 (mc)離子束清洗系統產品概述：該系統為計算機全自動實現工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統，具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-12-17
NPC-3000 等離子清洗機去膠機
npc-3000等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子灰化和清洗系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用
更新時間:2025-12-17
NIE-3000 (C) 離子束清洗系統
nie-3000 (c) 離子束清洗系統產品概述：該系統為手動放片取片，但通過計算機全自動實現工藝控制的臺式離子束刻蝕系統，系統具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。該系統所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-12-17
NIE-3500 (AC) 全自動離子束清洗系統
nie-3500 (ac)全自動離子束清洗系統產品概述：該系統為全自動上下載片，并且通過計算機全自動實現工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統，系統具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。該系統所配套的所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時間:2025-12-17
NPE-4000 (M) 等離子體化學氣相沉積系統
npe-4000（m） pecvd等離子體化學氣相沉積系統概述：nano-master pecvd系統能夠沉積高質量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達12” 直徑的基片上.該系統采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以達到低至10-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個mfc.帶有獨一無二氣體分布系統的平面中空陰極等離子源使得系統可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數。
更新時間:2025-12-17
SWC-4000 (C) 兆聲清洗系統
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-12-17
SWC-3000 (M) 兆聲掩模板清洗機
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-12-17
LSC-4000 (C) 兆聲大基片清洗系統
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-12-17
NPC-3500 (M) 等離子清洗機
npc-3500（m）等離子清洗/去膠機概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
更新時間:2025-12-17
等離子清洗機@索引2023標準配置
等離子清洗機是一種表面處理設備, 用氣體作為處理介質，它是利用能量轉換技術以電能將氣體轉換為化學反應性和活性很高的氣體等離子體，等離子體對固體樣品表面進行相互作用，引起分子結構改變，從而對樣品表面的有機污染物進行超清洗和使樣品表面改性，以獲得希望的表 面特性。
更新時間:2025-12-17
CPC-E等離子清洗機
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時間:2025-12-16
CPC-Eplus等離子清洗機
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時間:2025-12-16
等離子清洗機
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的
更新時間:2025-12-16
CPC-F等離子清洗機
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的
更新時間:2025-12-16
CPC-FM等離子清洗機
等離子清洗設備廣泛應用于材料學、微電子、半導體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學等領域，主要用于材料表面進行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時間:2025-12-16
CPC-FMplus等離子清洗機
等離子清洗機（plasma cleaner）也叫等離子清潔機、等離子表面處理儀，是一種低能耗、清潔、環(huán)保、處理均勻的的高科技技術，它利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。
更新時間:2025-12-16
CPC-10等離子清洗機
等離子清洗能實現清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產。
更新時間:2025-12-16
CPC-10M等離子清洗機
等離子清洗機（plasma cleaning）能實現清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產。
更新時間:2025-12-16
CPC-G等離子清洗機
等離子清洗機（plasma cleaning）能實現清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產。
更新時間:2025-12-16
CPCP3粉體等離子清洗機
專為處理粉體如粉末、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機，可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料，改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。同時可實現常規(guī)等離子清洗。
更新時間:2025-12-16
手套箱專用等離子清洗機
vgb系列手套箱專用等離子清洗設備，優(yōu)化的腔體結構及合理的結構設計更適合手套箱內使用。安裝簡單方便，性能穩(wěn)定，實用性強，容易維護。
更新時間:2025-12-16
中試生產型等離子清洗機
cpc系列等離子清洗機是為中試客戶和工業(yè)級客戶而設計的等離子體表面處理設備。配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數生產場景清洗，活化、刻蝕等應用。設備可在嚴苛環(huán)境下穩(wěn)定運行，產品性能穩(wěn)定，樣品處理重復性、一致性好。
更新時間:2025-12-16
透射電鏡樣品桿清洗機
cif透射電鏡（tem）樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源設計，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時可實現常規(guī)等離子清洗。主要用于tem透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
更新時間:2025-12-16
掃描電鏡等離子清洗機
tem透射樣品桿長期暴露于大氣中，空氣中水汽及污染物會附著于樣品桿表面，會導致電鏡抽真空時間延長，污染電鏡真空腔室、探測器等，影響電鏡的使用壽命
更新時間:2025-12-16
等離子清洗機 2.6L 小型 高性價比 德國原裝進口 DIENER ZEPTO
等離子可以應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時間:2025-12-16
等離子清洗機 10.5L 小型 高性價比 德國原裝進口 DIENER ATTO
等離子可以應用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項前瞻性技術可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術可應用于不同材料，例如：玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時間:2025-12-16
精密型等離子清洗機 小型 臺式 研發(fā)專用 FEMTO 德國原裝進口 DIENER 2.2L
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能?？梢詰糜诙喾N領域。
更新時間:2025-12-16
精密型等離子清洗機 研發(fā)專用 PICO 德國原裝進口 DIENER 5L-8L
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能?？梢詰糜诙喾N領域。
更新時間:2025-12-16
精密型等離子清洗機 小型生產 NANO 德國原裝進口 DIENER 18L-24L
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能?？梢詰糜诙喾N領域。
更新時間:2025-12-16
德國原裝進口 等離子清洗機 DIENER TETRA30 30-50L 清洗/活化/蝕刻/涂層
tetra 30等離子系統能夠以不同的形式進行整合，可以滿足生產企業(yè)需求，也能夠按照客戶要求進行定制。
更新時間:2025-12-16
常壓等離子清洗機 德國原裝進口 DIENER plasmabeam 大氣等離子清洗機
對于常壓等離子技術，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應粒子實現?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-12-16
常壓等離子清洗機 德國原裝進口 DIENER plasmabeam DUO 大氣等離子清洗機
對于常壓等離子技術，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應粒子實現?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時間:2025-12-16
全自動在線式大氣等離子清洗機
cap-auto系列全自動在線式大氣等離子清洗機采用單軸模組配合旋噴等離子組件，噴洗高度可調，運動軌跡可根據要求設定，上下料方式采用鏈條或皮帶傳動連接前后工序，實現對產線產品的等離子清洗處理。
更新時間:2025-12-16
CPC-Auto在線片式真空等離子清洗機
cpc-auto在線片式真空等離子清洗機具有成本較低、容易使用，維護乃保養(yǎng)費用低，環(huán)保等優(yōu)點。適用于芯片粘結工藝前、引線鍵合和覆晶封裝工藝前的表面處理，與傳統獨立式的等離子清洗機相比，在線片式真空等離子清洗機具有自動化程度高、清洗效率高、設備潔凈度高、適用范圍廣等優(yōu)點，適用于大規(guī)模全自動化生產。
更新時間:2025-12-16
等離子去膠機
等離子去膠機，采用電感耦合各向同性（各個方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復雜的幾何構形都可以進行等離子體去膠。特別適合于大學，科研院所和微電子、半導體企業(yè)實驗室，對電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹脂、mems制造過程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對基材進行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預處理等。
更新時間:2025-12-16
微波級等離子清洗機
plasma-preen 微波級等離子清洗機是 一臺小型臺式設備，可以用來清洗和刻蝕。 plasma-preen 等離子清洗機系統融合了諸多工藝特點，并在眾多的應用領域中得到了肯定。
更新時間:2025-12-16
微波級等離子清洗機
plasma-preen 微波級等離子清洗機是 一臺小型臺式設備，可以用來清洗和刻蝕。 plasma-preen 等離子清洗機系統融合了諸多工藝特點，并在眾多的應用領域中得到了肯定。
更新時間:2025-12-16
遠程等離子清洗儀
美國pie公司出品的semi-kleen 等離子清洗儀, 可清洗各種類型電子或者離子顯微鏡，深紫外光刻機，電子光刻系統等真空儀器。一個儀器同時清洗真空腔體和樣品。
更新時間:2025-12-16
SEM掃描電鏡等離子清洗機
tergeo em型sem及tem樣品/樣品桿清潔專用等離子清潔儀美國pie scientific專注研發(fā)先進的實驗室用等離子儀器，用于sem/tem樣品清潔、光刻膠蝕刻、等離子體增強沉積、表面處理與活化。我們的宗旨是：將半導體和核工程研究中開發(fā)的等離子技術集成到經濟實用的實驗室用等離子儀器。專為去除sem & tem樣品的碳氫污染而設計。特有的雙清洗模式（immersion和downstream）能夠處理各種不同的樣品，從嚴重污染的電子光學孔徑光闌到各種脆弱易損樣品，如石墨烯、碳納米管、類金剛石碳膜以及多孔碳支持膜銅網上的tem樣品。石英樣品托板上的孔洞可以安裝標準sem樣品托。特別設計的適配器可以清潔不同廠家的tem樣品桿。
更新時間:2025-12-16
TEM透射電鏡等離子清洗機
tergeo em型sem及tem樣品/樣品桿清潔專用等離子清潔儀美國pie scientific專注研發(fā)先進的實驗室用等離子儀器，用于sem/tem樣品清潔、光刻膠蝕刻、等離子體增強沉積、表面處理與活化。我們的宗旨是：將半導體和核工程研究中開發(fā)的等離子技術集成到經濟實用的實驗室用等離子儀器。專為去除sem & tem樣品的碳氫污染而設計。特有的雙清洗模式（immersion和downstream）能夠處理各種不同的樣品，從嚴重污染的電子光學孔徑光闌到各種脆弱易損樣品，如石墨烯、碳納米管、類金剛石碳膜以及多孔碳支持膜銅網上的tem樣品。石英樣品托板上的孔洞可以安裝標準sem樣品托。特別設計的適配器可以清潔不同廠家的tem樣品桿
更新時間:2025-12-16

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